8”立式爐

設備型號：M51200-1/UM

主要用于半導體器件制程中的摻雜、氧化、推阱、退火、合金、薄膜沉積等工藝。

技術參數(shù)：

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主要用于半導體器件制程中的摻雜、氧化、推阱、退火、合金、薄膜沉積等工藝。

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8”立式爐

M51200-1/UM

湖南爍科熱工智能裝備有限公司

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